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    什么是PVD?

    作者: 來源: 日期:2017-10-21 18:09:35 人氣:3106

          

            PVD是物理氣相沉積的縮寫。物理氣相沉積描述了各種真空沉積方法,其可廣泛用于在諸如塑料,玻璃,金屬,陶瓷等的不同基底上生產薄膜和涂層. PVD的特征在于其中材料從固態到氣態,然后回到薄膜固態。最常見的PVD工藝是離子,濺射,電子束和蒸發。 PVD用于制造需要用于機械,光學,化學或電子功能的薄膜的物品。

      工業常見PVD涂層如Cu,Al,Cr,Au,Ni的純金屬膜,和TiN,TiC,TiCN,TiAlN,ZrN,CrN,CrSiN,ZrTiCN,TiAlCN,ZrC,TiALN,DLC等復合膜。

    常見PVD真空鍍膜機:

    陰極電弧離子PVD真空鍍膜機:靶材在放電的高功率電弧作用下將其上物質噴射沉積在工件上。

    電子束PVD真空鍍膜機:待沉積的材料,在“高”真空中的電子轟擊中,冷凝沉積在工件上。

    蒸發PVD真空鍍膜機:待沉積的材料,在“高”真空中,通過電阻加熱,冷凝沉積在工件上。

    磁控濺射PVD真空鍍膜機:發出輝光等離子體放電(通常通過磁體定位在“靶”周圍),材料濺射沉積在工件上。

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