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    昆山浦元為您解讀鍍膜機工作原理

    作者: 來源: 日期:2016-03-04 15:57:36 人氣:2472

     

           真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。今天,昆山浦元真空技術工程有限公司為您介紹以下幾種鍍膜機工作原理:
        

            一、空心陰極離子鍍原理

                   在本底真空為高真空的條件下,由陰極中通入氬器氣(1-10-2)在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓,使氬氣發生輝光放電,在空心陰極內產生低壓等離子體放電,陰極溫度升高到2300-2400K時,由冷陰極放電轉為熱陰極放電,開始熱電子發射,放電轉為穩定狀態。通入反應氣體,可以制化合膜。

            二、測控濺射工作原理

                  先將真空室預抽至10-3Pa,然后通入氣體(如氬氣),氣壓為1-10 Pa時,給靶加負電壓,產生輝光放電,電子在電場正作用下加速飛向基片時,與氬原子碰撞,電離出Ar和另一個電子;轟擊靶材,由二次電子電離的 越來越多,不斷轟擊靶材;磁場改變電子的運動方向,以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡,從而提高電子對工作氣體的電離幾率。

            三、多弧離子鍍工作原理

                   其工作原理為冷陰極自持弧光放電,其物理基礎為場致發射。被鍍材料接陰極,真空室接陽極,真空室抽為高真空時,引發電極啟動器,接觸拉開,此時,陰極與陽極之間形成穩定的電弧放電,陰極表面布滿飛速游動的陰極斑,部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發源,以若干個電弧蒸發源為核心的為多弧離子鍍。

            四、電阻蒸發式鍍膜機

                   膜材即要鍍的材料放于蒸發舟中,置于真空室中,抽到一定真空時,通過電阻加熱膜材,使其蒸發,當蒸發分子的平均自由程大于蒸發源至基片的線性尺寸時,原子和分子從蒸發源中逸出后,到達基片形成膜。為了使膜厚均勻,可以利用電機帶動基片旋轉,并用膜厚儀控制膜厚,制出優質膜。

            五、E型槍工作原理

                   陰極燈絲加熱后發射具有0.3    EV初動能的熱電子,這些熱電子在燈絲陰極與陽極之間的電場作用下加速并會聚成束狀。在電磁線圈的磁場中,電子束沿E x B的方向偏轉,通過陰極時,電子的能量提高到10KV,通過陽極電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表面上,轟擊膜材使其蒸發。

            六、PCVD鍍膜工作原理

                   將被鍍件放在低壓輝光放電的陰極上,通入適當氣體,在一定溫度下,利用化學反應和離子轟擊相結合的過程,在工件表面獲得涂層。

           昆山浦元真空技術工程有限公司將膜層工藝、設備研發、制造生產、銷售、服務集于一體,致力于為企業、科研院所、薄膜涂層加工中心等提供有競爭力的綜合解決方案和服務。我公司將竭誠為您服務,歡迎國內外新老客戶蒞臨參觀、指導并洽談業務!

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