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    磁控濺射膜常見故障的排除

    作者: 來源: 日期:2016-02-17 16:17:52 人氣:2610

    磁控濺射膜常見故障的排除

    膜層灰暗及發黑

    (1)真空度低于 0.67Pa。應將真空度提高到 0.13-0.4Pa。

    (2)氬氣純度低于 99.9%。應換用純度為 99.99%的氬氣。

    (3)充氣系統漏氣。應檢查充氣系統,排除漏氣現象。

    (4)底漆未充分固化。應適當延長底漆的固化時間。

    (5)鍍件放氣量太大。應進行干燥和封孔處理 膜層表面光澤暗淡

    (1)底漆固化不良或變質。應適當延長底漆的固化時間或更換底漆。

    (2)濺射時間太長。應適當縮短。

    (3)濺射成膜速度太快。應適當降低濺射電流或電壓

    膜層色澤不均

    (1)底漆噴涂得不均勻。應改進底漆的施涂方法。

    (2)膜層太薄。應適當提高濺射速度或延長濺射時間。

    (3)夾具設計不合理。應改進夾具設計。

    (4)鍍件的幾何形狀太復雜。應適當提高鍍件的旋轉速度

    膜層發皺、龜裂

    (1)底漆噴涂得太厚。應控制在 7—lOtan 厚度范圍內。

    (2)涂料的粘度太高。應適當降低。

    (3)蒸發速度太快。應適當減慢。

    (4)膜層太厚。應適當縮短濺射時間。

    (5)鍍件溫度太高。應適當縮短對鍍件的加溫時間

    膜層表面有水跡、指紋及灰粒

    (1)鍍件清洗后未充分干燥。應加強鍍前處理。

    (2)鍍件表面濺上水珠或唾液。應加強文明生產,操作者應帶口罩。

    (3)涂底漆后手接觸過鍍件,表面留下指紋。應嚴禁用手接觸鍍件表面。

    (4)涂料中有顆粒物。應過濾涂料或更換涂料。

    (5)靜電除塵失效或噴涂和固化環境中有顆?;覊m。應更換除塵器,并保持工作環境的清潔

    膜層附著力不良

    (1)鍍件除油脫脂不徹底。應加強鍍前處理。

    (2)真空室內不清潔。應清洗真空室。值得注意的是,在裝靶和拆靶的過程中,嚴禁用手 或不干凈的物體與磁控源接觸,以保證磁控源具有較高的清潔度,這是提高膜層結合力的 要措施之一。

    (3)夾具不清潔。應清洗夾具。

    (4)底涂料選用不當。應更換涂料。

    (5)濺射工藝條件控制不當。應改進濺射工藝條件

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