<track id="lljh9"><track id="lljh9"></track></track>
    <menuitem id="lljh9"></menuitem>
    微信二維碼微信掃一掃 關注浦元最新動態!

    技術知識

    當前位置:首頁|新聞中心

    CVD原理介紹

    作者: 來源: 日期:2016-01-27 14:29:33 人氣:4416

    化學氣相沉積是一種制備材料的氣相生長方法,它是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室,借助空間氣相化學反應在基體表面上沉積固態薄膜的工藝技術?;瘜W氣相沉積(Chemical vapor deposition,簡稱CVD)是反應物質在氣態條件下發生化學反應,生成固態物質沉積在加熱的固態基體表面,進而制得固體材料的工藝技術。它本質上屬于原子范疇的氣態傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積(PVD)。

    友情鏈接: 三菱伺服電機  鐵件鍍錫  粉塵檢測儀  移動伸縮噴漆房  鋼筋桁架樓承板  環氧自流平施工  紅木家具  法蘭盤  水穩攪拌站  端子截面分析儀  防火隔音門  鈹銅板 
    版權所有 ? 昆山浦元真空技術工程有限公司 Copyright 2016 All Rights Reserved
      技術支持:昆山果橙網絡  蘇ICP備16002609號-1  后臺登陸 網站地圖  XML
    亚洲国产成人手机av在线观看-疯狂做受XXXX-欧美熟妇A片一级黑人A片一级-欧洲免费无线码在线观看-chinese男同白袜调教网站