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    CJ系列磁控濺射真空鍍膜機

    日期:2016-01-16 13:28:37 人氣:19057

    CJ系列磁控濺射真空鍍膜機

    工作原理

    CJ系列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理,所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常用氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體表面原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場,磁場為曲線形,均勻電場和對數電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下,加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量(約為30ev)時,則電離出Ar+并產生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用下,加速飛向陰極(濺射靶)并以高能量轟擊靶表面,使靶材發生濺射。 

    應用范圍

    廣泛應用于家電電器、鐘表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層,在鍍制超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

    產品特點

    1)、膜厚可控性和重復性好。能夠可靠的鍍制預定厚度的薄膜,并且濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層;
    2)、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象,在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層;
    3)、制備特殊材料的薄膜,可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜,還可濺射成TiN仿金膜;
    4)、膜層純度高,濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
    5 )、裝備低溫離子輔助源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜,節能省電,提高產能。

    技術參數表

    CJ系列磁控濺射真空鍍膜機     
    型號CJ-600CJ-800CJ-1000CJ-1200CJ-1400CJ-1500CJ-1600
    真空室尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
    真空機組KT400擴散泵機組KT500擴散泵機組KT800擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組雙KT630擴散泵機組
    鍍膜系統直流或中頻電源、鍍膜輔助離子專用電源
    充氣系統質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計
    控制方式手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動手動或全自動
    極限真空5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa5X10-3Pa
    備注以上設備參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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